IC050 – флагманська модель у лінійці лабораторних крісел HEWEI SEATING, повністю оснащена великою спинкою, подвійними підлокітниками та шасі з подвійною функцією. Ця конструкція «три в одному» забезпечує повну підтримку та свободу регулювання для тривалої та вимогливої експериментальної роботи.
Збільшена спинка – повне покриття спини: спинка значно більша, ніж у стандартних лабораторних крісел, простягається від поперекової області до лопаток для повної підтримки верхньої частини тіла. Ергономічно сформована відповідно до природного вигину хребта, вона ефективно розподіляє м’язову напругу, що робить тривале сидіння менш обтяжливим.
Подвійні підлокітники – підтримка там, де вам це потрібно: підлокітники можна складати вгору або вниз за потреби. У розкладеному вигляді вони підтримують передпліччя та лікті, зменшуючи навантаження на плечі, шию та зап'ястя – ідеально підходить для роботи з мікроскопом, прецизійного паяння та тривалого запису даних. Коли вони не використовуються, вони піднімаються, щоб забезпечити легкий вхід та вихід, не заважаючи робочому простору.
Подвійне функціональне шасі – комфорт на вимогу: поєднує регулювання кута нахилу спинки з пневматичним регулюванням висоти. Спинку можна зафіксувати в комфортному положенні нахилу для постійної підтримки попереку, а плавний газовий підйомник підходить для різних користувачів та робочих станцій. Разом ці налаштування допомагають кожному користувачеві знайти ідеальне положення для сидіння.
Інтегральна ПУ піна – флагманський комфорт: Подушка з високощільної ПУ піни з потовщеною конструкцією забезпечує м’яку, але пружну підтримку, яка з часом не провисає. Безшовна, стійка до плям поверхня легко чиститься, що відповідає високим гігієнічним стандартам преміальних лабораторій.
Захист від електростатичних розрядів – безпека понад усе: відповідає міжнародним стандартам ESD для безпечного розсіювання статичного заряду, захищаючи прецизійні електронні прилади та експериментальні дані від електростатичних перешкод.
IC050 – Флагманський рівень комфорту, розроблений для складних робочих умов.